韩国科学技术研究院（KIST）人工大脑融合研究所、、、
、韩国科学技术院（KAIST）及韩国化学研究院联合研究团队成功研发新二维绝缘体物质合成技术
，，，，制作出高性能人工突触元件。
。

目前利用硅基的半导体芯片比生物突触耗能大
，，，，集成度低。。。。该科研团队的核心技术是应用氧化物及无机物材料的特性研制二维绝缘体新物质
，，结合自主研发的原子级纳米二维半导体
，，，以异质结构为基础研制新人工突触元件。。经过测试
，，，
，该人工突触元件耗能已降至人类突触水平，
，，同时在外部信息刺激的强弱变化条件下
，，
，，该人工突触元件的数据处理精确度达88.3％。。。
。该研究成果刊登在期刊《Advanced Materials》上
。。。
。

注：本文摘自国外相关研究报道，，文章内容不代表本网站观点和立场，
，
，仅供参考。。。。

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